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精确成像,色彩還(hái)原度高(gāo),工業檢測顯微鏡采用(yòng)經過多(duō)年研究和(hé)不斷改良的(de)NIS45無限遠(yuǎn)光(guāng)學系統,具有工作距離長(cháng),色差矯正能力強,成像銳利的(de)光(guāng)學品質。
專爲工業大(dà)面積觀察需求設計—大(dà)面積觀察需要更大(dà)的(de)操作平台,NM1000系列顯微鏡采用(yòng)12寸超大(dà)載物(wù)台,滿足FPD及LSI的(de)檢測。同時(shí),加入離合器平台手柄及物(wù)鏡轉換等人(rén)性化(huà)部件,極大(dà)的(de)降低了(le)長(cháng)時(shí)間顯微操作帶來(lái)的(de)疲勞。
模塊化(huà)設計,實現觀察方法的(de)多(duō)樣性— NM1000系列工業檢測顯微鏡采用(yòng)模塊化(huà)設計,可(kě)實現明(míng)場(chǎng)、暗場(chǎng)、微分(fēn)幹涉、熒光(guāng)、偏光(guāng)等觀測方法。是半導體器件、FPD、電子器件、材料、精密模具制造的(de)質控和(hé)研究的(de)理(lǐ)想工具。
精确成像,色彩還(hái)原度高(gāo)
柯勒照(zhào)明(míng)
顯微照(zhào)明(míng)系統--柯勒照(zhào)明(míng),提供明(míng)亮均勻的(de)視場(chǎng)。配合無限遠(yuǎn)光(guāng)學系統NIS45和(hé)高(gāo)數值孔徑和(hé)長(cháng)工作距離的(de)物(wù)鏡,給您提供顯微成像。
NIS45系列物(wù)鏡
采用(yòng)多(duō)層鍍膜技術,能夠補償球差及從紫外到近紅外的(de)色差。保證了(le)圖像的(de)銳度、清晰度和(hé)色彩還(hái)原性。使所有倍率都能獲得(de)高(gāo)分(fēn)辨率和(hé)平坦的(de)圖像。
人(rén)體工學設計,操作舒适
近人(rén)端設計
顯微觀察經常使用(yòng)的(de)控制機構位于顯微鏡正面(靠近操作者)。方便您觀察樣本時(shí)可(kě)以更快(kuài)更方便的(de)對(duì)顯微鏡進行操作。減少長(cháng)時(shí)間觀察帶來(lái)的(de)疲勞及大(dà)幅度動作帶來(lái)的(de)浮塵。
可(kě)變傾角三目觀察頭
可(kě)調節傾斜角度的(de)觀察頭,可(kě)以在更舒适的(de)姿勢下(xià)進行操作。減少長(cháng)時(shí)間工作帶來(lái)的(de)肌肉緊張與不适。
低手位調焦機構及平台微調機構
調焦機構及平台微調機構采用(yòng)低手位設計,符合人(rén)機工程學設計,給予您的(de)舒适感。
工業樣本觀察更方便
内置離合器平台手柄
可(kě)實現載物(wù)平台的(de)快(kuài)速與慢(màn)速兩種移動方式,能夠對(duì)大(dà)面積樣本進行快(kuài)速定位。與平台微調手柄配合使用(yòng),使精确快(kuài)捷定位樣本不再困難。
内置控制面闆
将特定按鈕設定爲與特定物(wù)鏡産生對(duì)應關系,隻需輕輕一按即可(kě)輕松改變放大(dà)倍率。
超大(dà)載物(wù)平台
微電子及半導體樣本往往面積較大(dà),普通(tōng)的(de)金相顯微鏡平台不能滿足它們的(de)觀察需求。NX1000擁有超大(dà)的(de)載物(wù)平台和(hé)超大(dà)的(de)移動範圍,并且移動方便快(kuài)捷。是大(dà)面積工業樣本顯微觀察的(de)理(lǐ)想工具。
防靜電保護罩
工業樣本往往懼怕浮塵,些許浮塵就會影(yǐng)響産品品質及檢驗結果。NX1000擁有大(dà)面積的(de)防靜電保護罩,最大(dà)程度杜絕浮塵與落塵。保護樣本,使檢驗結果更精确。